Srovnání řešení napěťového pole pod nanoindentorem při užití Hertzova postupu a kombinovaného numerického krystalografického přístupu

Comparison of Solutions of Stress Field based on Hertzian and Combined Numerical-Crystallographic Approaches beneath Nanoindenter

conference paper

en

Nanoindentation is considered to be a very promising experimental approach to measuring the ideal shear strength since the stressed volume beneath the sharp indenter may be defect-free. The local shear component of the stress reaches its maximum value at some close distance from the indenter in the bulk. The value of the stress can reach the ideal shear strength and, consequently become high enough to nucleate dislocations. This process might be detected as a pop-in on the nanoindentation load-displacement curve. To model the nanoindentation test for that purpose, three different approaches have been used in this works. The first approach is based on the analytical Hertzian solution of the stress field beneath the nanoindenter where only a continuum mechanics is taken into account. The second concept is based on the numerical solution without crystallographic considerations and the third one respects the fact that the dislocation generation in the substrate is subjected to crystallographic rules. The aim of this article is to compare all these concepts by their application to the nanoindentation process performed on selected bcc and fcc metallic substrates.

Nanoindentace je považována za velmi slibný experimentální přístup k měření ideální smykové pevnosti , protože objem pod ostrým indentorem může být bez dislokací. Místní složka napětí při smyku dosahuje své maximální hodnoty v určité vzdálenosti od indentoru. Hodnota napětí může dosáhnout ideální pevnost ve smyku a následně je dostatečně vysoká, aby umožniola vznik dislokací . Tento proces může být detekován jako poskok na nanoindentační zatížení křivce. K modelování nanoindentačních testů pro tento účel byly použity tři různé přístupy. První přístup je založen na analytickém řešení napěťového pole pod nanoindentorem , kde je použita jen mechanika kontinua. Druhý koncept je založen na numerickém řešení bez krystalografických úvah a třetí respektujeskutečnost, že dislokace se generace v substrátu podle krystalografických pravidel. Cílem tohoto článku je porovnat všechny tyto přístupy provedené na vybraných BCC a FCC kovových materiálech.

Nanoindentation is considered to be a very promising experimental approach to measuring the ideal shear strength since the stressed volume beneath the sharp indenter may be defect-free. The local shear component of the stress reaches its maximum value at some close distance from the indenter in the bulk. The value of the stress can reach the ideal shear strength and, consequently become high enough to nucleate dislocations. This process might be detected as a pop-in on the nanoindentation load-displacement curve. To model the nanoindentation test for that purpose, three different approaches have been used in this works. The first approach is based on the analytical Hertzian solution of the stress field beneath the nanoindenter where only a continuum mechanics is taken into account. The second concept is based on the numerical solution without crystallographic considerations and the third one respects the fact that the dislocation generation in the substrate is subjected to crystallographic rules. The aim of this article is to compare all these concepts by their application to the nanoindentation process performed on selected bcc and fcc metallic substrates.

Nanoindentace; Hertzův model; Numerické řešení; Pop-in efekt; Krystalografie

Nanoindentation; Hertzian approach; Numerical solution; Pop-in effect; Crystallography

2012

01.02.2012

978-3-03785-218-7

1013-9826

Advances in Fracture and Damage Mechanics X

488-489

1

1

395–398

4