Publication detail

A plasmatic ion source optimalisation for direct deposition of thin films

VOBORNÝ, S. ZLÁMAL, J.

Czech title

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

English title

A plasmatic ion source optimalisation for direct deposition of thin films

Type

conference paper

Language

cs

Original abstract

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

Czech abstract

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

English abstract

An optimalization of plasmatic ion source for direct deposition of thin films and layers.

Keywords in English

Ion source

RIV year

2001

Released

05.12.2000

Publisher

Vutium

Location

Brno

Book

II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI

Pages count

4

BIBTEX


@inproceedings{BUT4508,
  author="Stanislav {Voborný} and Jakub {Zlámal},
  title="Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev",
  booktitle="II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI",
  year="2000",
  month="December",
  publisher="Vutium",
  address="Brno"
}