Patent detail
Device for water treatment and way of doing it using this device
RUDOLF, P. POCHYLÝ, F. SŤAHEL, P. RÁHEĽ, J. MARŠÁLEK, B. ČECH, J.
Czech title
Zařízení pro čištění kapalin a způsob čištění kapalin s využitím tohoto zařízení
English title
Device for water treatment and way of doing it using this device
Patent type
Patent
Czech abstract
Způsob čištění kapalin generováním nízkoteplotního plazmatu v kapalinách a zařízení k provádění tohoto způsobu. Vynález slouží pro čištění kapalin od biologického i chemického znečištění, je založen na generování plazmatu v oblasti kavitace, tj. míst kde dochází k přeměně kapaliny na páru. Nízký tlak je lokálně vytvořen urychlením kapaliny, např. zúžením průřezu. Plazma vzniká přiložením vysokonapěťové elektrody do místa vzniku kavitace. Druhou zemněnou elektrodu představuje vlastní kapalina. Nízký tlak v oblasti páry vytvořené kavitací významně snižuje hodnotu zápalného napětí. Další možností využití jsou plazmové úpravy tekutin, práškových materiálů a pevných látek. Velkou výhodou je, že se jedná o fyzikální, nikoli chemickou metodu úpravy kapalin. Byla podána a udělena k 17. 6. 2021 mezinárodní patentová ochrana dle Smlouvy o mezinárodní spolupráci (PCT) pod číslem WO/2021/115498 a k 2. 8. 2023 udělen izraelský patent 293579. Byly podány a nyní jsou ve fázi prověřování patenty v USA, Kanadě a evropský patent. V roce 2023 byla úspěšně realizována komercializace a byly prodány 2 licence patentu pod číslem 308532 firmám ASIO-TECH s.r.o. (číslo smlouvy VUT: 014835/2022/00) a ABPLAST Group s.r.o. (číslo smlouvy VUT: 014834/2022/00) pro oblast ČR.
English abstract
Water treatment of polluted water by cold plasma in hydrodynamic cavitation: device and its application. Invention treats biologically or chemically polluted water, it is based on generation of plasma in cavitation region, i.e. region where water evaporates. low pressure is locally induced by water flowing fast through contraction. Plasma is generated by placing high-voltage electrode to place of cavitation onset. The second grounded electrode is the water itself. Low pressure significantly decreases voltage for plasma ignition. Furthet possibilities for utilization of the invention are e.g. plasma treatment of liquids, powders and solid matters. The main advantage is that the process is physical, not chemical. International patent protection under the international Patent Cooperation Treaty (PCT) under WO/2021/115498 was filed and granted as of 17. 6. 2021 and Israeli patent 293579 was granted as of 2. 8. 2023. US, Canadian and European patents have been filed and are now pending. In 2023, commercialization was successfully implemented and 2 licenses of patent number 308532 were sold to ASIO-TECH s.r.o. (contract number VUT: 014835/2022/00) and ABPLAST Group s.r.o. (contract number VUT: 014834/2022/00) for the Czech Republic.
Date of registration
13.12.2019
Patent number
308532
Patent owner
VUT, MUNI, Botanický ústav AVČR