Efuzní atomární zdroj pro UHV SEM zařízení

Atomic source designed for UHV SEM

funkční vzorek

Zdroj atomů slouží k přesnému nanášení materiálů na povrch vzorků rychlostí cca 10 nm/h. Zdroj atomů je složen z Mo kalíšku, který je ohřívám pomocí dopadu urychlených elektronů vystupujících ze žhaveného wolframového vlákna. Zdroj je aktivně chlazen vodou a teplota je monitorována pomocí termočlánku umístěného na chlazeném těle zdroje. Navíc zdroj je vybaven decelerační elektrodou, která potlačuje rušivý vliv parazitních iontů vystupujíc ze zdroje. Výstupní clonu lze nastavit do tří přesně definovaných polohy (Off, On, clona průměru 1 mm)

Atomic source suitable for defined deposition of material on the substrate (deposition rate about 10 nm per hour). The atomic source consists of a Mo cup, which is heated by the accelerated electrons from the tungsten filament. The atomic source is actively water cooled and its temperature is monitored by thermocouples available on the chilled source body. The source is equipped by a deceleration electrode that suppresses the effect of parasitic ions emerging from the sources. Remote shutter can be set to three precisely defined positions (Off, On, aperture of 1 mm in diameter).

30.12.2019

Laboratoř povrchů a tenkých vrstev, Technická 2, A2/518